Teknologi

China Genjot Proyek Litografi EUV Rahasia, Ribuan Insinyur Dikerahkan untuk Kemandirian Chip Canggih

Advertisement

China dilaporkan tengah menggenjot pengembangan mesin litografi extreme ultraviolet (EUV) di sebuah laboratorium berkeamanan tinggi di Shenzhen. Upaya ini disebut sebagai koordinasi nasional untuk mengatasi hambatan teknologi krusial dalam produksi chip canggih.

Menurut laporan Reuters, mesin yang sangat kompleks dan vital untuk pembuatan chip mutakhir tersebut telah beroperasi, meskipun belum mampu memproduksi chip yang berfungsi. Sumber menyebutkan, Beijing menargetkan tahun 2028 untuk memulai produksi chip, namun tahun 2030 dinilai sebagai target yang lebih realistis.

Dapatkan berita menarik lainnya di mureks.co.id.

Laporan tersebut juga menggarisbawahi peran sentral Huawei dalam proyek ini. Ribuan insinyur dari berbagai lembaga penelitian negara di seluruh negeri terlibat dalam inisiatif ambisius ini. Sumber yang dikutip detikINET dari Asia Times pada Sabtu (20/12/2025) bahkan membandingkan proyek ini dengan ‘Proyek Manhattan’ versi China.

Perbandingan tersebut merujuk pada program rahasia Amerika Serikat yang dipimpin oleh Robert Oppenheimer, yang berhasil memobilisasi ilmuwan, industri, dan negara untuk mengembangkan bom atom antara tahun 1942-1947, sebuah kisah yang kemudian diangkat ke layar lebar Hollywood.

Sumber Reuters menambahkan bahwa prototipe mesin EUV ini telah rampung pada awal 2025 dan kini sedang menjalani tahap pengujian. Mesin tersebut memenuhi hampir seluruh lantai pabrik dan dirakit oleh tim yang mencakup mantan insinyur dari ASML, pembuat peralatan semikonduktor asal Belanda.

Salah satu tim dipimpin oleh Lin Nan, seorang mantan insinyur ASML yang kini menjabat sebagai profesor di Universitas Beihang. Sementara itu, Zhao Yongpeng, seorang profesor di Institut Teknologi Harbin, memimpin tim lainnya.

Advertisement

Sebelumnya, beberapa media China melaporkan bahwa Huawei sedang menguji mesin EUV khusus di sebuah pabrik di Dongguan, Guangdong. Mereka menyebutkan bahwa Institut Teknologi Harbin bertanggung jawab atas sumber cahaya, Institut Optik Changchun untuk sistem optik, dan Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) untuk integrasi keseluruhan sistem.

Menanggapi laporan ini, The Global Times, surat kabar yang berafiliasi dengan Partai Komunis China, menerbitkan komentar berjudul “Tidak perlu Reuters untuk cemas tentang kemajuan teknologi China.” Artikel tersebut berpendapat bahwa laporan Reuters, yang mengandalkan sumber anonim, lebih mencerminkan kegelisahan Barat daripada fakta sebenarnya.

Meski demikian, artikel Global Times tidak menyangkal keberadaan laboratorium penelitian EUV berkeamanan tinggi di Guangdong. Media tersebut menyatakan bahwa China telah lama berupaya mencari alternatif domestik untuk alat litografi impor demi mencapai kemandirian teknologi.

Lebih lanjut, Global Times berargumen bahwa kontrol ekspor justru tidak memperlambat kemajuan teknologi China, melainkan memacu inovasi domestik. Artikel itu juga menegaskan bahwa terobosan China akan menguntungkan umat manusia, seraya memperingatkan bahwa upaya untuk memblokir China dapat memecah belah rantai pasokan teknologi global.

Advertisement