Ilmuwan China di sebuah laboratorium keamanan tinggi di Shenzhen dilaporkan telah berhasil mengembangkan prototipe mesin litografi ultraviolet ekstrem (EUV) untuk produksi chip. Proyek rahasia ini, yang digambarkan sebagai “Proyek Manhattan” versi China, bertujuan untuk mengurangi ketergantungan pada rantai pasok Amerika Serikat (AS) dan menyaingi teknologi canggih Negeri Paman Sam.
Ambisi Kemandirian Chip China
Mega proyek strategis ini berada di bawah pengawasan ketat Ding Xuexiang, orang kepercayaan Presiden China Xi Jinping yang memimpin Komisi Sains dan Teknologi Pusat Partai Komunis. Raksasa elektronik Huawei juga memainkan peran kunci dalam mengkoordinasikan jaringan perusahaan dan lembaga penelitian negara yang terlibat.
Pembaca dapat menelusuri artikel informatif lainnya di Mureks. mureks.co.id
Tujuan utama dari inisiatif ini sangat jelas. “Tujuannya adalah agar China pada akhirnya dapat membuat chip canggih pada mesin yang sepenuhnya buatan China. China ingin Amerika Serikat 100% keluar dari rantai pasokannya,” ujar salah satu sumber yang mengetahui proyek tersebut, dikutip Jumat (2/1/2026).
Mureks mencatat bahwa pengembangan ini merupakan respons langsung terhadap pembatasan ekspor yang diperketat oleh AS sejak 2018, yang secara signifikan membatasi akses China terhadap teknologi semikonduktor vital.
Rekayasa Balik dan Progres Prototipe
Melansir dari laporan Reuters pada Jumat (02/01/2026), proyek ini melibatkan tim yang terdiri dari mantan insinyur raksasa semikonduktor Belanda, ASML. Prototipe mesin EUV tersebut dikembangkan melalui proses rekayasa balik (reverse-engineering) terhadap mesin EUV milik ASML yang kini tengah menjalani tahap pengujian intensif.
Menurut sumber internal proyek, mesin ini telah berhasil menghasilkan cahaya ultraviolet ekstrem, sebuah langkah krusial dalam proses litografi. Namun, sistem tersebut dilaporkan belum mampu memproduksi chip yang berfungsi secara penuh pada saat ini.
Keberadaan prototipe ini mengindikasikan bahwa China mungkin sebentar lagi akan lebih dekat menuju kemandirian semikonduktor daripada yang diperkirakan oleh para analis Barat. CEO ASML Christophe Fouquet sebelumnya memprediksi China membutuhkan waktu bertahun-tahun untuk menguasai teknologi ini, namun ketersediaan suku cadang dari mesin lama di pasar telah mempercepat proses tersebut.
Target Ambisius dan Kerahasiaan Ketat
Pemerintah China menetapkan target ambisius untuk memproduksi chip yang berfungsi menggunakan prototipe ini pada tahun 2028. Kendati demikian, sumber internal proyek menilai target yang lebih realistis adalah tahun 2030. Angka ini tetap jauh lebih cepat dibandingkan prediksi satu dekade yang diyakini analis sebelumnya.
Tingkat kerahasiaan proyek ini sangat ketat. Para insinyur yang terlibat, termasuk mantan pegawai ASML, bekerja menggunakan identitas palsu untuk alasan keamanan nasional.
Menanggapi laporan tersebut, manajemen ASML menyatakan bahwa meskipun perusahaan tidak dapat mengontrol tempat kerja mantan karyawannya, seluruh staf terikat oleh klausul kerahasiaan. ASML menegaskan pihaknya tetap waspada menjaga rahasia dagang dan siap menempuh jalur hukum jika terjadi pelanggaran.
Teknologi EUV, yang sebelumnya dimonopoli oleh Barat, sangat vital untuk mencetak sirkuit super tipis pada wafer silikon. Teknologi ini mendukung pengembangan kecerdasan artifisial (AI), smartphone, dan sistem persenjataan canggih.
